Communication Dans Un Congrès Année : 2025

Electron beam lithography tests on EM Resist’s new 32%-HSQ resist formulation

Deblock_2025_Renatech-EMResist-Hal.pdf (2.32 Mo) Télécharger le fichier
Origine Fichiers produits par l'(les) auteur(s)
Licence

Dates et versions

hal-05308260 , version 1 (10-10-2025)

Identifiants

  • HAL Id : hal-05308260 , version 1

Citer

Yves Deblock, Pascal Tilmant, Anne-Sophie Vaillard, Christophe Boyaval, Saliha Ouendi, et al.. Electron beam lithography tests on EM Resist’s new 32%-HSQ resist formulation. 2025 Renatech+ Lithography and Etching Days, Jun 2025, Palaiseau, France. ⟨hal-05308260⟩
43 Consultations
67 Téléchargements

Partager

  • More