Electron beam lithography tests on EM Resist’s new 32%-HSQ resist formulation
| Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
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| Licence |
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https://hal.science/hal-05308260
Soumis le : vendredi 10 octobre 2025-14:22:06
Dernière modification le : lundi 23 mars 2026-09:10:02