Communication Dans Un Congrès Année : 2024

Recent Advances and Emerging Applications of Atomic Layer Deposition (ALD) on High-Aspect Ratio Materials

Domaines

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-05291423 , version 1 (01-10-2025)

Identifiants

  • HAL Id : hal-05291423 , version 1

Citer

Mikhael Bechelany. Recent Advances and Emerging Applications of Atomic Layer Deposition (ALD) on High-Aspect Ratio Materials. NanoTech Poland 2024, Jun 2024, Poznań, Poland. ⟨hal-05291423⟩
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