Communication Dans Un Congrès Année : 2024

Recent Advancements and Emerging Applications in Atomic Layer Deposition (ALD) on High-Porosity Materials

Domaines

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-05291414 , version 1 (01-10-2025)

Identifiants

  • HAL Id : hal-05291414 , version 1

Citer

Mikhael Bechelany. Recent Advancements and Emerging Applications in Atomic Layer Deposition (ALD) on High-Porosity Materials. Prime 24, Oct 2024, Honolulu - Hawaii, United States. ⟨hal-05291414⟩
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