Communication Dans Un Congrès Année : 2022

Revisited Thermal and Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition processes of metal nitrides

Domaines

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04819213 , version 1 (04-12-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04819213 , version 1

Citer

E. Blanquet, Arnaud Mantoux, Frédéric Mercier, Raphaël Boichot, Ioana Nuta, et al.. Revisited Thermal and Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition processes of metal nitrides. ALD/ALE 2022, 22nd International Conference on Atomic Layer Deposition, Jun 2022, Ghent (BE), Belgium. ⟨hal-04819213⟩
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