Communication Dans Un Congrès
Année : 2024
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https://hal.science/hal-04799786
Soumis le : samedi 23 novembre 2024-14:13:03
Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-19:58:58
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04799786 , version 1
Citer
Jeremy Vives, Julie Chaussard, Fabien Deprat, Marvin Frauenrath, Ece Aybeke, et al.. Nucleation and Growth Mechanisms of Polycrystalline SiGe-Based Materials By Chemical Vapor Deposition at Reduced Pressure. PRiME 2024, The Electrochemical Society, Oct 2024, Honolulu, HI, United States. ⟨hal-04799786⟩
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