Communication Dans Un Congrès
Année : 2021
Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-04766876
Soumis le : mardi 5 novembre 2024-10:43:57
Dernière modification le : mercredi 8 avril 2026-10:01:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04766876 , version 1
Citer
Maxime Puyo, Charlotte Lebesgue, Konstantina Christina Topka, Babacar Diallo, Raphaël Laloo, et al.. INTRINSIC MECHANICAL PROPERTIES DETERMINATION OF MODERATE TEMPERATURE PROCESSED CVD AMORPHOUS SILICON OXIDE (SiO2) AND OXYNITRIDE (SiOxNy) THIN FILMS. International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF), Apr 2021, San Diego, United States. ⟨hal-04766876⟩
Collections
68
Consultations
0
Téléchargements