Chapitre D'ouvrage
Année : 2019
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https://hal.science/hal-04733083
Soumis le : vendredi 11 octobre 2024-17:07:28
Dernière modification le : vendredi 21 novembre 2025-08:45:53
Citer
David Munoz-Rojas, Viet Huong Nguyen, César Masse de la Huerta, Carmen Jiménez, Daniel Bellet. Spatial Atomic Layer Deposition. Chemical Vapor Deposition for Nanotechnology, IntechOpen, 2019, ⟨10.5772/intechopen.82439⟩. ⟨hal-04733083⟩
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