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Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Protections périphériques des composants 1200 V

Florian Chevalier
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 963754
Pierre Brosselard
Bertrand Vergne
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 960061
Nicolas Dheilly
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 859353
Lionel Dupuy
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 959877
Grégory Grosset
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 959876

Résumé

La protection périphérique des composants de puissance est un élément essentiel afin d'atteindre les hautes tensions autorisées par les matériaux dits à grand gap. Différentes solutions ont été envisagées, comme des gravures ou des implantations ioniques autour de la zone active. La gravure est une étape particulière au cours du procédé de fabrication. En revanche, les étapes d'implantation sont souvent nécessaires à la réalisation des zones actives des composants, c'est pourquoi nous avons envisagé de nous en servir pour la protection de ces composants, dans un souci de réduction du nombre d'étapes et de simplification des procédés. La dose est le paramètre à ajuster pour ces zones de protection. Nous allons montrer expérimentalement qu'une dose élevée combinée à une énergie d'implantation élevée sera bien moins efficace qu'une faible dose liée à une énergie d'implantation faible.
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Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-04560447 , version 1 (26-04-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04560447 , version 1

Citer

Florian Chevalier, Pierre Brosselard, D. Tournier, Bertrand Vergne, Nicolas Dheilly, et al.. Protections périphériques des composants 1200 V. 14ème EPF, Jul 2012, Bordeaux, France. 4 p. ⟨hal-04560447⟩
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