An original approach for the fabrication of Si/SiO2 multilayers using reactive magnetron sputtering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2002

Dates et versions

hal-04435447 , version 1 (02-02-2024)

Identifiants

Citer

C Ternon, F Gourbilleau, X Portier, P Voivenel, C Dufour. An original approach for the fabrication of Si/SiO2 multilayers using reactive magnetron sputtering. Thin Solid Films, 2002, 419 (1-2), pp.5-10. ⟨10.1016/S0040-6090(02)00294-8⟩. ⟨hal-04435447⟩
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