Communication Dans Un Congrès
Année : 2021
Muriel BOUTTEMY : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-04425884
Soumis le : mardi 30 janvier 2024-11:36:58
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04425884 , version 1
Citer
Ghewa Akiki, Mathieu Frégnaux, Ileana Florea, Sergej Filonovich, Pavel Bulkin, et al.. Area Selective Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of
Silicon using a Fluorinated Precursor. AVS 67, Oct 2021, Virtual (On-line), United States. ⟨hal-04425884⟩
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