Impact of PECVD poly-Si on Tunnel Oxide for Passivating Contacts - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Impact of PECVD poly-Si on Tunnel Oxide for Passivating Contacts

Domaines

Chimie
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04404175 , version 1 (18-01-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04404175 , version 1

Citer

Anatole Desthieux, Jorge Posada, Pierre-Philippe Grand, Cédric Broussillou, Barbara Bazer-Bachi, et al.. Impact of PECVD poly-Si on Tunnel Oxide for Passivating Contacts. ICANS 28, May 2019, Palaiseau, France. ⟨hal-04404175⟩
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