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Communication Dans Un Congrès Année : 2022

InP XPS modifications induced by Ar+ beam etching: a quantitative approach

Mathieu Frégnaux
Muriel Bouttemy
D Aureau
Solène Béchu
Anne-Marie Goncalves
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1087496
Arnaud Etcheberry

Domaines

Chimie
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04390834 , version 1 (12-01-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04390834 , version 1

Citer

Mathieu Frégnaux, Muriel Bouttemy, D Aureau, Solène Béchu, Anne-Marie Goncalves, et al.. InP XPS modifications induced by Ar+ beam etching: a quantitative approach. JNSPE, May 2022, Dijon, France. ⟨hal-04390834⟩
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