Thin film CIGS technology on flexible substrate: XPS study of the alkali element evolution in time after NaF and KF post-deposition treatment - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2018

Thin film CIGS technology on flexible substrate: XPS study of the alkali element evolution in time after NaF and KF post-deposition treatment

Solène Béchu
Muriel Bouttemy
Thibaud Hildebrandt
  • Fonction : Auteur
Mathieu Frégnaux
D Aureau
Frederique Donsanti
  • Fonction : Auteur
Marie Jubault
Arnaud Etcheberry

Domaines

Chimie
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04390583 , version 1 (12-01-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04390583 , version 1

Citer

Solène Béchu, Anais Loubat, M Balestrieri, Muriel Bouttemy, Thibaud Hildebrandt, et al.. Thin film CIGS technology on flexible substrate: XPS study of the alkali element evolution in time after NaF and KF post-deposition treatment. E-MRS, Jun 2018, Strasbourg, France. ⟨hal-04390583⟩
15 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More