Zirconium oxynitrides thin films by reactive magnetron sputtering for the oxygen reduction reaction - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Zirconium oxynitrides thin films by reactive magnetron sputtering for the oxygen reduction reaction

Amael Caillard
Soumya Atmane
  • Fonction : Auteur
Anne-Lise Thomann
E. Millon
Seyedehsara Fazeli
  • Fonction : Auteur

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04291407 , version 1 (17-11-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04291407 , version 1

Citer

Amael Caillard, Soumya Atmane, Pascal Brault, Christophe Coutanceau, Sabine Valange, et al.. Zirconium oxynitrides thin films by reactive magnetron sputtering for the oxygen reduction reaction. E-MRS 2023, May 2023, Strasbourg (67), France. ⟨hal-04291407⟩
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