CO2-laser-induced chemical vapour deposition of polycrystalline silicon from silane - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 1987

CO2-laser-induced chemical vapour deposition of polycrystalline silicon from silane

G. Auvert
  • Fonction : Auteur
Y. Pauleau
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-04236243 , version 1 (10-10-2023)

Identifiants

Citer

D. Tonneau, G. Auvert, Y. Pauleau. CO2-laser-induced chemical vapour deposition of polycrystalline silicon from silane. Thin Solid Films, 1987, 155 (1), pp.75-86. ⟨10.1016/0040-6090(87)90454-8⟩. ⟨hal-04236243⟩
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