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Article Dans Une Revue Chemical Physics Année : 1984

Deposition of Silicon Films by Photodissociation of Silane Under IR Laser Irradiation

Y. Pauleau
  • Fonction : Auteur
G. Auvert
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-04236238 , version 1 (10-10-2023)

Identifiants

Citer

Y. Pauleau, D. Tonneau, G. Auvert. Deposition of Silicon Films by Photodissociation of Silane Under IR Laser Irradiation. Chemical Physics, 1984, Springer Series in Chemical Physics, 39, pp.215-220. ⟨10.1007/978-3-642-82381-7_28⟩. ⟨hal-04236238⟩
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