Wafer-scale detachable monocrystalline germanium nanomembranes for the growth of III–V materials and substrate reuse - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Nanoscale Advances Année : 2023

Wafer-scale detachable monocrystalline germanium nanomembranes for the growth of III–V materials and substrate reuse

Rufi Kurstjens
  • Fonction : Auteur
Jinyoun Cho
  • Fonction : Auteur
Guillaume Courtois
  • Fonction : Auteur
Kristof Dessein
  • Fonction : Auteur

Résumé

The Porous germanium Efficient Epitaxial LayEr Release (PEELER) process is introduced allowing the fabrication of wafer scale detachable monocrystalline Ge nanomembranes compatible with III–V material growth on porous Ge and substrate reuse.
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Paupy-nanoscaleADvanced2023.pdf (1.2 Mo) Télécharger le fichier
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Dates et versions

hal-04235406 , version 1 (10-10-2023)

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Citer

Nicolas Paupy, Zakaria Oulad Elhmaidi, Alexandre Chapotot, Tadeáš Hanuš, Javier Arias-Zapata, et al.. Wafer-scale detachable monocrystalline germanium nanomembranes for the growth of III–V materials and substrate reuse. Nanoscale Advances, 2023, 5 (18), pp.4696-4702. ⟨10.1039/D3NA00053B⟩. ⟨hal-04235406⟩
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