Wafer-scale detachable monocrystalline germanium nanomembranes for the growth of III–V materials and substrate reuse - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Nanoscale Advances Année : 2023

Wafer-scale detachable monocrystalline germanium nanomembranes for the growth of III–V materials and substrate reuse

Rufi Kurstjens
  • Fonction : Auteur
Jinyoun Cho
  • Fonction : Auteur
Guillaume Courtois
  • Fonction : Auteur
Kristof Dessein
  • Fonction : Auteur

Résumé

The Porous germanium Efficient Epitaxial LayEr Release (PEELER) process is introduced allowing the fabrication of wafer scale detachable monocrystalline Ge nanomembranes compatible with III–V material growth on porous Ge and substrate reuse.
Fichier principal
Vignette du fichier
Paupy-nanoscaleADvanced2023.pdf (1.2 Mo) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers éditeurs autorisés sur une archive ouverte

Dates et versions

hal-04235406 , version 1 (10-10-2023)

Identifiants

Citer

Nicolas Paupy, Zakaria Oulad Elhmaidi, Alexandre Chapotot, Tadeáš Hanuš, Javier Arias-Zapata, et al.. Wafer-scale detachable monocrystalline germanium nanomembranes for the growth of III–V materials and substrate reuse. Nanoscale Advances, 2023, 5 (18), pp.4696-4702. ⟨10.1039/D3NA00053B⟩. ⟨hal-04235406⟩
18 Consultations
42 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More