Microstructural characterization and thermal stability of He charged amorphous silicon films prepared by magnetron sputtering in helium - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Chemistry and Physics Année : 2023

Microstructural characterization and thermal stability of He charged amorphous silicon films prepared by magnetron sputtering in helium

A. Fernández
T. Sauvage
B. Diallo
D. Hufschmidt
M.C. Jiménez de Haro
  • Fonction : Auteur
O. Montes
  • Fonction : Auteur
J.M. Martínez-Blanes
  • Fonction : Auteur
J. Caballero
V. Godinho
F.J. Ferrer
S. Ibrahim
A-L Thomann
  • Fonction : Auteur

Domaines

Matériaux
Fichier principal
Vignette du fichier
mcp301_127674_23.pdf (14.43 Mo) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers éditeurs autorisés sur une archive ouverte

Dates et versions

hal-04172285 , version 1 (27-07-2023)

Identifiants

Citer

A. Fernández, T. Sauvage, B. Diallo, D. Hufschmidt, M.C. Jiménez de Haro, et al.. Microstructural characterization and thermal stability of He charged amorphous silicon films prepared by magnetron sputtering in helium. Materials Chemistry and Physics, 2023, 301, pp.127674. ⟨10.1016/j.matchemphys.2023.127674⟩. ⟨hal-04172285⟩
7 Consultations
4 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More