Microstructural characterization and thermal stability of He charged amorphous silicon films prepared by magnetron sputtering in helium - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Materials Chemistry and Physics Année : 2023

Microstructural characterization and thermal stability of He charged amorphous silicon films prepared by magnetron sputtering in helium

A. Fernández
T. Sauvage
B. Diallo
D. Hufschmidt
M.C. Jiménez de Haro
  • Fonction : Auteur
O. Montes
  • Fonction : Auteur
J.M. Martínez-Blanes
  • Fonction : Auteur
J. Caballero
V. Godinho
F.J. Ferrer
S. Ibrahim
Pascal Brault
Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
CV
A-L Thomann
  • Fonction : Auteur

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Soumis le : jeudi 27 juillet 2023-13:57:50

Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:28:03

Archivage à long terme le : samedi 28 octobre 2023-18:57:03

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hal-04172285 , version 1 (27-07-2023)

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Citer

A. Fernández, T. Sauvage, B. Diallo, D. Hufschmidt, M.C. Jiménez de Haro, et al.. Microstructural characterization and thermal stability of He charged amorphous silicon films prepared by magnetron sputtering in helium. Materials Chemistry and Physics, 2023, 301, pp.127674. ⟨10.1016/j.matchemphys.2023.127674⟩. ⟨hal-04172285⟩

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