Communication Dans Un Congrès
Année : 2009
Karine Pistre : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-04164984
Soumis le : mardi 18 juillet 2023-15:42:19
Dernière modification le : vendredi 18 octobre 2024-13:44:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04164984 , version 1
Citer
Nicolas Gherardi, Louison Maechler, Ionut Enache, Nicolas Naudé, Hubert Caquineau, et al.. Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition by Homogeneous Dielectric Barrier Discharge. AVS 56th International Symposium, San-Jose USA, 2009, San-Jose, United States. ⟨hal-04164984⟩
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