Silicon-based coatings by Atmospheric Pressure Townsend Discharge - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04164983 , version 1 (18-07-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04164983 , version 1

Citer

Nicolas Gherardi, Louison Maechler, Ionut Enache, Nicolas Naudé, Hubert Caquineau, et al.. Silicon-based coatings by Atmospheric Pressure Townsend Discharge. III Central European Symposium on Plasma Chemistry, Kiev, Ukraine, 2009, Kiev, Ukraine. ⟨hal-04164983⟩
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