Nucleation and coalescence of tungsten disulfide layers grown by metalorganic chemical vapor deposition - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Crystal Growth Année : 2023

Nucleation and coalescence of tungsten disulfide layers grown by metalorganic chemical vapor deposition

Haonan Tang
Sergej Pasko
Simonas Krotkus
Thorsten Anders
Cornelia Wockel
Jan Mischke
Xiaochen Wang
  • Fonction : Auteur
Ben Conran
  • Fonction : Auteur
Clifford Mcaleese
  • Fonction : Auteur
Ken Teo
  • Fonction : Auteur
Sreetama Banerjee
Henry Medina Silva
  • Fonction : Auteur
Pierre Morin
  • Fonction : Auteur
Inge Asselberghs
  • Fonction : Auteur
Alain Marty

Dates et versions

hal-04107337 , version 1 (26-05-2023)

Identifiants

Citer

Haonan Tang, Sergej Pasko, Simonas Krotkus, Thorsten Anders, Cornelia Wockel, et al.. Nucleation and coalescence of tungsten disulfide layers grown by metalorganic chemical vapor deposition. Journal of Crystal Growth, 2023, 608, pp.127111. ⟨10.1016/j.jcrysgro.2023.127111⟩. ⟨hal-04107337⟩
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