Caractérisation morphologique et structurale de dépôts de silicium sur poudres réalisés par CVD en lit fluidisé - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2006

Caractérisation morphologique et structurale de dépôts de silicium sur poudres réalisés par CVD en lit fluidisé

Résumé

Les résultats présentés portent sur la caractérisation fine de dépôts de silicium formés par CVD (Chemical Vapor Deposition) en lit fluidisé sur des poudres de 300 μm de diamètre moyen d’alumine Al2O3 et de 0,5 μm de dioxyde de titane TiO2. L’objectif est de former des dépôts continus sans perte de la granulométrie initiale. La morphologie des dépôts, leur composition chimique, leur épaisseur, leur agencement à la surface des poudres et leur état cristallin seront caractérisés par des analyses de diffraction des rayons X, MEB, FT-IR et Raman.
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Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-04090310 , version 1 (05-05-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04090310 , version 1
  • OATAO : 2724

Citer

Cécile Rossignol, Loic Cadoret, Marc Verelst, Jeannette Dexpert-Ghys, Brigitte Caussat. Caractérisation morphologique et structurale de dépôts de silicium sur poudres réalisés par CVD en lit fluidisé. Matériaux 2006 - Colloque 03 - Maîtrise des microstructures des matériaux : du laboratoire au procédé industriel., Nov 2006, Dijon, France. pp.0. ⟨hal-04090310⟩
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