Caractérisation morphologique et structurale de dépôts de silicium sur poudres réalisés par CVD en lit fluidisé
Résumé
Les résultats présentés portent sur la caractérisation fine de dépôts de silicium formés par CVD (Chemical Vapor Deposition) en lit fluidisé sur des poudres de 300 μm de diamètre moyen d’alumine Al2O3 et de 0,5 μm de dioxyde de titane TiO2. L’objectif est de former des dépôts continus sans perte de la granulométrie initiale. La morphologie des dépôts, leur composition chimique, leur épaisseur, leur agencement à la surface des poudres et leur état cristallin seront caractérisés par des analyses de diffraction des rayons X, MEB, FT-IR et Raman.
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)