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Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Surface energy: a key parameter for epitaxial films growth and plasma atomic layer etching

Henri Mariette
abstract AEPSE.2019.Mariette.pdf (176.99 Ko) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-04004370 , version 1 (12-04-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04004370 , version 1

Citer

Henri Mariette. Surface energy: a key parameter for epitaxial films growth and plasma atomic layer etching. Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, Sep 2019, Jeju-si, South Korea. ⟨hal-04004370⟩

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