Charge transfer at the metal-insulator transition in V2O3 thin films by resonant inelastic x-ray scattering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Physical Review B Année : 2008
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Dates et versions

hal-03999259 , version 1 (21-02-2023)

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Citer

C. Hague, J.-M. Mariot, V. Ilakovac, R. Delaunay, M. Marsi, et al.. Charge transfer at the metal-insulator transition in V2O3 thin films by resonant inelastic x-ray scattering. Physical Review B, 2008, 77 (4), pp.045132. ⟨10.1103/PhysRevB.77.045132⟩. ⟨hal-03999259⟩
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