Deposition of SiO2/TiO2 nanocomposite thin films by atmospheric-pressure Townsend discharge - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Deposition of SiO2/TiO2 nanocomposite thin films by atmospheric-pressure Townsend discharge

Domaines

Plasmas
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03988478 , version 1 (14-02-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03988478 , version 1

Citer

Jacopo Profili, L. Stafford, Nicolas Naudé, Nicolas Gherardi. Deposition of SiO2/TiO2 nanocomposite thin films by atmospheric-pressure Townsend discharge. CAP 2013 : Canadian Association of Physicists Montréal, Canada, 2013, Montréal, Canada. ⟨hal-03988478⟩
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