Communication Dans Un Congrès
Année : 2013
Karine Pistre : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03988478
Soumis le : mardi 14 février 2023-14:22:15
Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:21
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03988478 , version 1
Citer
Jacopo Profili, L. Stafford, Nicolas Naudé, Nicolas Gherardi. Deposition of SiO2/TiO2 nanocomposite thin films by atmospheric-pressure Townsend discharge. CAP 2013 : Canadian Association of Physicists Montréal, Canada, 2013, Montréal, Canada. ⟨hal-03988478⟩
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