Deposition of SiO<sub>2</sub>/TiO<sub>2</sub> nanocomposite thin films by Atmospheric Pressure Townsend Discharge - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Deposition of SiO2/TiO2 nanocomposite thin films by Atmospheric Pressure Townsend Discharge

Domaines

Plasmas
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03977142 , version 1 (07-02-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03977142 , version 1

Citer

Jacopo Profili, Nicolas Gherardi, L. Stafford, O. Levasseur, Richard Clergereaux, et al.. Deposition of SiO2/TiO2 nanocomposite thin films by Atmospheric Pressure Townsend Discharge. International Vacuum Society: IVC 19, Paris, France, 2013, Paris, France. ⟨hal-03977142⟩
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