Communication Dans Un Congrès
Année : 2016
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https://hal.science/hal-03965783
Soumis le : mardi 31 janvier 2023-15:23:19
Dernière modification le : lundi 26 février 2024-11:22:09
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03965783 , version 1
Citer
Lumei Wei, Marie-Laure Locatelli, Sombel Diaham, C. D. Pham, G. Grosset, et al.. High Temperature Dielectric Properties of SiO2 Films Deposited by TEOS PECVD. 1st International Conference on Dielectrics (ICD 2016), July 3-7, 2016, Montpellier (FRANCE), 2016, Montpellier, France. pp.72-75. ⟨hal-03965783⟩
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