Liveschaltung zum Dünnschichtwachstum
Résumé
Echtzeitmessungen während der Sputterdeposition ermöglichen einen einzigartigen Zugang zum Wachstum von dünnen Schichten und Nanostrukturen. Eine einfach umsetzbare, hochempfindliche Methode ist die optische Messung der Eigenspannung. Die Interpretation des Signals ist wegen der Vielzahl von potentiellen Ursachen der Eigenspannung eine Herausforderung. Dieses Problem kann mit gleichzeitigen Messungen der Strukturänderungen überwunden werden. Im Folgenden stellen wir einen sehr vielversprechenden Ansatz dafür vor, basierend auf simultanen Röntgen- und Spannungsmessungen. Das Potential dieser Methode wird am Beispiel der Metall/Silizium-Grenzfläche demonstriert. Nach nur 2-3 Nanometern zeigen beide Metalle eine plötzlich auftretende Zugspannung, danach entwickelt sich die Eigenspannung jedoch sehr unterschiedlich. Unsere Messungen enthüllen, dass die Zugspannung in beiden Fällen auf einen Kristallisationsprozess zurückzuführen ist, sich die Grenzschicht jedoch fundamental unterscheidet.