Optimization of silica deposition by sputtering in the silicon thin film transistors realization in low temperature technology - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 1995

Optimization of silica deposition by sputtering in the silicon thin film transistors realization in low temperature technology

K. Kis Sion
  • Fonction : Auteur
J. Pinel
  • Fonction : Auteur
V. Dollé
  • Fonction : Auteur
O. Bonnaud
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-03662105 , version 1 (09-05-2022)

Identifiants

Citer

K. Kis Sion, J. Pinel, V. Dollé, L. Pichon, O. Bonnaud. Optimization of silica deposition by sputtering in the silicon thin film transistors realization in low temperature technology. Microelectronic Engineering, 1995, 28 (1-4), pp.459-462. ⟨10.1016/0167-9317(95)00097-R⟩. ⟨hal-03662105⟩
6 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More