Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 1995
Laurent Pichon : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03662105
Soumis le : lundi 9 mai 2022-09:38:30
Dernière modification le : jeudi 13 avril 2023-13:30:07
Citer
K. Kis Sion, J. Pinel, V. Dollé, L. Pichon, O. Bonnaud. Optimization of silica deposition by sputtering in the silicon thin film transistors realization in low temperature technology. Microelectronic Engineering, 1995, 28 (1-4), pp.459-462. ⟨10.1016/0167-9317(95)00097-R⟩. ⟨hal-03662105⟩
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