Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2015
Laurent Markey : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03551149
Soumis le : mardi 1 février 2022-14:47:18
Dernière modification le : lundi 15 juillet 2024-14:51:05
Citer
Laurent Markey, Filimon Zacharatos, Jean-Claude Weeber, Andreas Prinzen, Michael Waldow, et al.. Recess Photomask Contact Lithography and the fabrication of coupled silicon photonic and plasmonic waveguide switches. Microelectronic Engineering, 2015, 141, pp.129-134. ⟨10.1016/j.mee.2015.02.009⟩. ⟨hal-03551149⟩
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