Recess Photomask Contact Lithography and the fabrication of coupled silicon photonic and plasmonic waveguide switches - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2015
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Dates et versions

hal-03551149 , version 1 (01-02-2022)

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Citer

Laurent Markey, Filimon Zacharatos, Jean-Claude Weeber, Andreas Prinzen, Michael Waldow, et al.. Recess Photomask Contact Lithography and the fabrication of coupled silicon photonic and plasmonic waveguide switches. Microelectronic Engineering, 2015, 141, pp.129-134. ⟨10.1016/j.mee.2015.02.009⟩. ⟨hal-03551149⟩
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