Article Dans Une Revue
Optics Express
Année : 2018
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https://hal.science/hal-03550913
Soumis le : mardi 1 février 2022-12:38:53
Dernière modification le : jeudi 16 mai 2024-13:20:04
Citer
S. Viarbitskaya, J. Arocas, O. Heintz, G. Colas-Des-Francs, D. Rusakov, et al.. Correlation between electrical direct current resistivity and plasmonic properties of CMOS compatible titanium nitride thin films. Optics Express, 2018, 26 (8), pp.9813. ⟨10.1364/OE.26.009813⟩. ⟨hal-03550913⟩
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