Article Dans Une Revue
IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
Année : 2018
Venkata Virajit Garbhapu : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03548692
Soumis le : dimanche 30 janvier 2022-23:37:48
Dernière modification le : dimanche 30 janvier 2022-23:50:01
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03548692 , version 1
- DOI : 10.1088/1757-899X/310/1/012125
Citer
Venkata Virajit Garbhapu, Sundararaman Gopalan, Sivaramakrishnan Ramesh, Shibesh Dutta. Effects of substrate heating and post-deposition annealing on characteristics of thin MOCVD HfO 2 films. IOP Conference Series: Materials Science and Engineering, 2018, 310, pp.012125. ⟨10.1088/1757-899X/310/1/012125⟩. ⟨hal-03548692⟩
20
Consultations
0
Téléchargements