Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics Année : 2022

Hybrid cross correlation and line-scan alignment strategy for CMOS chips electron-beam lithography processing

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hal-03521727 , version 1 (24-03-2025)

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Raphaël Dawant, Robyn Seils, Serge Ecoffey, Rainer. Schmid, Dominique Drouin. Hybrid cross correlation and line-scan alignment strategy for CMOS chips electron-beam lithography processing. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, 2022, 40 (1), pp.012601. ⟨10.1116/6.0001278⟩. ⟨hal-03521727⟩
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