Hybrid cross correlation and line-scan alignment strategy for CMOS chips electron-beam lithography processing - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics Année : 2022

Hybrid cross correlation and line-scan alignment strategy for CMOS chips electron-beam lithography processing

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Sciences de l'ingénieur [physics] Physique [physics]

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https://hal.science/hal-03521727

Soumis le : mardi 11 janvier 2022-17:39:31

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:29:44

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hal-03521727 , version 1 (11-01-2022)

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Citer

Raphaël Dawant, Robyn Seils, Serge Ecoffey, Rainer. Schmid, Dominique Drouin. Hybrid cross correlation and line-scan alignment strategy for CMOS chips electron-beam lithography processing. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, 2022, 40 (1), pp.012601. ⟨10.1116/6.0001278⟩. ⟨hal-03521727⟩

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