Moisture diffusion in plasma-enhanced chemical vapor deposition dielectrics characterized with three techniques under clean room conditions - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2020

Dates et versions

hal-03489597 , version 1 (07-03-2022)

Licence

Paternité - Pas d'utilisation commerciale

Identifiants

Citer

Vivien Cartailler, Grégory Imbert, Névine Rochat, Catherine Chaton, Du Vo-Thanh, et al.. Moisture diffusion in plasma-enhanced chemical vapor deposition dielectrics characterized with three techniques under clean room conditions. Thin Solid Films, 2020, 698, pp.137874 -. ⟨10.1016/j.tsf.2020.137874⟩. ⟨hal-03489597⟩
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