Patterning enhanced tetragonality in BiFeO3 thin films with effective negative pressure by helium implantation - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Physical Review Materials Année : 2021

Patterning enhanced tetragonality in BiFeO3 thin films with effective negative pressure by helium implantation

A. Jarnac
E. Elkaim
P. Fertey
B. Noheda
M. Guennou
J. Kreisel
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Article_BFO_Helium_Implantation__Resubmission_PRM_final.pdf (14 Mo) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-03375557 , version 1 (12-10-2021)

Identifiants

Citer

C. Toulouse, J. Fischer, S. Farokhipoor, L. Yedra, F. Carlà, et al.. Patterning enhanced tetragonality in BiFeO3 thin films with effective negative pressure by helium implantation. Physical Review Materials, 2021, 5 (2), ⟨10.1103/PHYSREVMATERIALS.5.024404⟩. ⟨hal-03375557⟩
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