High critical current density obtained by focused ion beam patterning of high temperature superconducting thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 1992
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Dates et versions

hal-03282070 , version 1 (08-07-2021)

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Citer

I. Zaquine, G. Ben Assayag, J. Gierak, B. Dessertenne, B. Marcilhac, et al.. High critical current density obtained by focused ion beam patterning of high temperature superconducting thin films. Journal of Applied Physics, 1992, 72 (1), pp.270-272. ⟨10.1063/1.352126⟩. ⟨hal-03282070⟩
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