Communication Dans Un Congrès
Année : 2021
Rémi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03280162
Soumis le : mercredi 7 juillet 2021-10:24:17
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:22
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03280162 , version 1
Citer
Gaelle Antoun, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Aurélie Girard, Christophe Cardinaud, et al.. Nanoscale cryogenic process for highly selective etch of Si3N4 over Si. ALD/ALE 2021, Jun 2021, Virtual meeting, United States. ⟨hal-03280162⟩
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