Communication Dans Un Congrès
Année : 2021
Rémi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03280129
Soumis le : mercredi 7 juillet 2021-10:02:17
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:22
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03280129 , version 1
Citer
Rémi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux. Cryogenic etching applied to next generation interconnects. 2021 Virtual MRS spring meeting, MRS, Apr 2021, Seattle (Virtual meeting), United States. ⟨hal-03280129⟩
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