Improved critical temperature of superconducting plasma-enhanced atomic layer deposition of niobium nitride thin films by thermal annealing - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2020

Improved critical temperature of superconducting plasma-enhanced atomic layer deposition of niobium nitride thin films by thermal annealing

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hal-02997691 , version 1 (12-11-2020)

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Liang Tian, Ivane Bottala-Gambetta, Victor Marchetto, Manoël Jacquemin, Alexandre Crisci, et al.. Improved critical temperature of superconducting plasma-enhanced atomic layer deposition of niobium nitride thin films by thermal annealing. Thin Solid Films, 2020, 709, pp.138232. ⟨10.1016/j.tsf.2020.138232⟩. ⟨hal-02997691⟩
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