‘Raman characterization before and after rapid thermal annealing of CeO2 thin films grown by rf sputtering on (111) Si’ - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Raman Spectroscopy Année : 2009

‘Raman characterization before and after rapid thermal annealing of CeO2 thin films grown by rf sputtering on (111) Si’

M.T. Ta
  • Fonction : Auteur
J. Bernard
  • Fonction : Auteur
B. Boudart
  • Fonction : Auteur
J.C. Pesant
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02936064 , version 1 (11-09-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02936064 , version 1

Citer

Y. Guhel, M.T. Ta, J. Bernard, B. Boudart, J.C. Pesant. ‘Raman characterization before and after rapid thermal annealing of CeO2 thin films grown by rf sputtering on (111) Si’. Journal of Raman Spectroscopy, 2009. ⟨hal-02936064⟩
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