‘Raman characterization before and after rapid thermal annealing of CeO2 thin films grown by rf sputtering on (111) Si’ - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Raman Spectroscopy Année : 2009

‘Raman characterization before and after rapid thermal annealing of CeO2 thin films grown by rf sputtering on (111) Si’

Y. Guhel
  • Fonction : Auteur
Laboratoire Universitaire des Sciences Appliquées de Cherbourg
M.T. Ta
  • Fonction : Auteur
J. Bernard
  • Fonction : Auteur
B. Boudart
  • Fonction : Auteur
J.C. Pesant
  • Fonction : Auteur

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

Yannick Guhel  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

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Soumis le : vendredi 11 septembre 2020-00:13:08

Dernière modification le : mercredi 9 mars 2022-14:14:03

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Dates et versions

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Identifiants

  • HAL Id : hal-02936064 , version 1

Citer

Y. Guhel, M.T. Ta, J. Bernard, B. Boudart, J.C. Pesant. ‘Raman characterization before and after rapid thermal annealing of CeO2 thin films grown by rf sputtering on (111) Si’. Journal of Raman Spectroscopy, 2009. ⟨hal-02936064⟩

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