INCLINE - Inductively coupled plasma for CMOS-compatible etching of III-V integrated laser sources - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

INCLINE - Inductively coupled plasma for CMOS-compatible etching of III-V integrated laser sources

S. Bouchoule
  • Fonction : Auteur
L. Gatilova
  • Fonction : Auteur
G. Patriarche
S. Guilet
  • Fonction : Auteur
L. Le Gratiet
  • Fonction : Auteur
L. Vallier
  • Fonction : Auteur
Pascal Chabert
Jean-Paul Booth
R. Chanson
  • Fonction : Auteur
A. Rhallabi
  • Fonction : Auteur
C. Cardinaud
P. Rojo-Romeo
  • Fonction : Auteur
J.-L. Leclercq
X. Letartre
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02594797 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02594797 , version 1

Citer

S. Bouchoule, L. Gatilova, G. Patriarche, S. Guilet, L. Le Gratiet, et al.. INCLINE - Inductively coupled plasma for CMOS-compatible etching of III-V integrated laser sources. Journées Nationales en Nanosciences et Nanotechnologies, 2011, Ecole Polytechnique, Palaiseau, France. ⟨hal-02594797⟩
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