INCLINE - Inductively coupled plasma for CMOS-compatible etching of III-V integrated laser sources - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

INCLINE - Inductively coupled plasma for CMOS-compatible etching of III-V integrated laser sources

S. Bouchoule
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1377761
L. Gatilova
  • Fonction : Auteur
G. Patriarche
S. Guilet
  • Fonction : Auteur
L. Le Gratiet
  • Fonction : Auteur
L. Vallier
  • Fonction : Auteur
Pascal Chabert
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
R. Chanson
  • Fonction : Auteur
A. Rhallabi
  • Fonction : Auteur
C. Cardinaud
P. Rojo-Romeo
  • Fonction : Auteur
J.-L. Leclercq
X. Letartre

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02594797

Soumis le : vendredi 15 mai 2020-19:14:46

Dernière modification le : mercredi 11 décembre 2024-14:36:22

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Dates et versions

hal-02594797 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02594797 , version 1

Citer

S. Bouchoule, L. Gatilova, G. Patriarche, S. Guilet, L. Le Gratiet, et al.. INCLINE - Inductively coupled plasma for CMOS-compatible etching of III-V integrated laser sources. Journées Nationales en Nanosciences et Nanotechnologies, 2011, Ecole Polytechnique, Palaiseau, France. ⟨hal-02594797⟩

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