On plasma- and UV-induced VOC oxidation on TiO<SUB>2</SUB> surface pre-treated by plasma exposure monitored by QCLAS - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

On plasma- and UV-induced VOC oxidation on TiO2 surface pre-treated by plasma exposure monitored by QCLAS

D. Lopatik
  • Fonction : Auteur
Olivier Guaitella
M. Hübner
  • Fonction : Auteur
Antoine Rousseau
J. Roepcke
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02594779 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02594779 , version 1

Citer

Daniil Marinov, D. Lopatik, Olivier Guaitella, M. Hübner, Antoine Rousseau, et al.. On plasma- and UV-induced VOC oxidation on TiO2 surface pre-treated by plasma exposure monitored by QCLAS. FLTPD, 2011, Zinnowitz, Germany. ⟨hal-02594779⟩
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