Validation of Inductively Coupled Plasmas Sustained in Halogen Chemistries - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Validation of Inductively Coupled Plasmas Sustained in Halogen Chemistries

Ankur Agarwal
  • Fonction : Auteur
Mickaël Foucher
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
S. Rauf
  • Fonction : Auteur
Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
Pascal Chabert
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
Ken Collins
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02593676

Soumis le : vendredi 15 mai 2020-17:33:33

Dernière modification le : jeudi 12 décembre 2024-03:44:04

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02593676 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02593676 , version 1

Citer

Ankur Agarwal, Mickaël Foucher, S. Rauf, Jean-Paul Booth, Pascal Chabert, et al.. Validation of Inductively Coupled Plasmas Sustained in Halogen Chemistries. AVS Annual Symposium, Oct 2015, San Jose, California, United States. ⟨hal-02593676⟩

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