Communication Dans Un Congrès
Année : 2014
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https://hal.science/hal-02573388
Soumis le : jeudi 14 mai 2020-12:10:16
Dernière modification le : vendredi 19 avril 2024-16:18:57
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02573388 , version 1
Citer
Antoine Rousseau. Adsorption, desorption and reactivity of O and N atoms on SiO2 surface. 9th EU-Japan Joint Plasma Processing Symposium JSPP2014, Jan 2014, Bohinjska Bistrica, Slovenia. ⟨hal-02573388⟩
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