Etch process control with a deposition-tolerant planar electrostatic probe - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Etch process control with a deposition-tolerant planar electrostatic probe

Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
D. Keil
  • Fonction : Auteur
C. Thorgrimsson
  • Fonction : Auteur
M. Nagai
  • Fonction : Auteur
L. Albarede
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02573306

Soumis le : jeudi 14 mai 2020-12:08:20

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02573306 , version 1 (14-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02573306 , version 1

Citer

Jean-Paul Booth, D. Keil, C. Thorgrimsson, M. Nagai, L. Albarede. Etch process control with a deposition-tolerant planar electrostatic probe. Radiofrequency Plasma Workshop, May 2009, Presqu ile de Giens, France. ⟨hal-02573306⟩

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